半導(dǎo)體器件和電路制造技術(shù)飛速發(fā)展，器件特征尺寸不斷下降，而集成度不斷上升。這兩方面的變化都給失效缺陷定位和失效機(jī)理的分析帶來巨大的挑戰(zhàn)。對于半導(dǎo)體失效分析（fa）而言，微光顯微鏡（emission microscope, emmi）是一種相當(dāng)有用且效率高的分析工具。微光顯微鏡其高靈敏度的偵測能力，可偵測到半導(dǎo)體組件中電子－電洞對再結(jié)合時所發(fā)射出來的光線，能偵測到的波長約在350nm ~ 1100nm左右。它可以廣泛的應(yīng)用于偵測ic中各種組件缺陷所產(chǎn)生的漏電流，如：gate oxide defects / leakage、latch up、esd failure、junction leakage等。
emmi的工作原理圖如下：
由于加速載流子發(fā)光，即在局部的強(qiáng)場作用下產(chǎn)生的高速載流子與晶格原子發(fā)生碰撞離化，發(fā)射出光子，通常其光譜在可見光范圍內(nèi)有一個寬的分布（650-1050 nm），采用深度制冷的ccd相機(jī)可以拍攝到此現(xiàn)象。
先鋒科技公司代理的英國安道爾公司深度制冷ccd相機(jī)，5年的真空封閉質(zhì)保期，免除了您對于售后造成的困擾，同時相機(jī)在近紅外區(qū)域具有好的信噪比，針對emmi的應(yīng)用，主要*ccd相機(jī)如下：
型號
clara
ikon m 934 brdd
生產(chǎn)廠家
英國andor公司
英國andor公司
分辨率
1392*1040
1024*1024
zui低制冷溫度
零下45度
零下80度
像素尺寸
6.45um*6.45um
13um*13um
900nm量子效率
10%
65%
計算機(jī)接口
usb2.0
usb2.0
zui高幀速
11fps
2fps
是否含有em增益
否
否
產(chǎn)品優(yōu)勢及建議應(yīng)用
具有軟件可選近紅外增強(qiáng)模式，很低的制冷溫度，適用于離線電致/光致熒光檢測
背感光芯片，具有zui高的量子效率及zui低的制冷溫度，是離線電致/光致熒光檢測的研究級產(chǎn)品